华为黄宇:韬定律最大挑战在于 EDA 工具

2026-10-15 16:13:44
来源:IT之家
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问财摘要

1、华为半导体EDA首席科学家黄宇在2026湾芯展上表示,韬定律最大挑战在于EDA工具。同时工艺挑战、工程挑战和系统设计挑战也都存在。 2、黄宇透露,华为的韬(τ)定律主要分四层:最基础的器件层,优化晶体管结构和互联方式,从源头压缩器件时间常数;第二层是链路层,这是他们最大的创新点;第三层是芯片层,软硬件协同设计,形成新架构;第四层是系统层,即大家熟知的超级节点、机柜互联,需要更好的通讯协议和更快的速度。
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IT之家10月15日消息,据《科创板日报》今天报道,华为半导体(881121)EDA首席科学家黄宇今日在2026湾芯展上表示,韬定律最大挑战在于EDA工具。同时工艺挑战、工程挑战和系统设计挑战也都存在。

黄宇透露,华为的韬(τ)定律主要分四层:最基础的器件层,优化晶体管结构和互联方式,从源头压缩器件时间常数;第二层是链路层,这是他们最大的创新点;第三层是芯片层,软硬件协同设计,形成新架构;第四层是系统层,即大家熟知的超级节点、机柜互联,需要更好的通讯协议和更快的速度。

IT之家注:EDA全称电子设计自动化(Electronic Design Automation)。它是指利用计算机辅助设计(CAD)软件来完成超大规模集成电路(VLSI)芯片及电子系统的功能设计、综合、验证、布局和布线等全流程的软件工具链。

在半导体(881121)与微电子领域,EDA被称为“芯片之母”。就像炒菜要用锅一样,芯片设计师设计成百上亿个晶体管组成的芯片时,必须依赖EDA软件。

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